酸性清洗剂acidic cleaner以胺类、添加剂为原料，经混 合溶解而制成。本品既可清洗，又可电解。电解对铜表面可 起粗化弱腐蚀作用。可有效地清洗去除下膜抗蚀剂显影后的 残胶护浓度15%一2f7 0k}。pH值}.U一4.5..操作温度27一 49}浸洗时问3--4min。电解时问1 --2min。可用于去除 电镀前图形转移后印制电路板表面存在的指印、氧化物和其 他轻微站污。
2024-03-05
120酸性清洗剂acidic cleaner以胺类、添加剂为原料，经混 合溶解而制成。本品既可清洗，又可电解。电解对铜表面可 起粗化弱腐蚀作用。可有效地清洗去除下膜抗蚀剂显影后的 残胶护浓度15%一2f7 0k}。pH值}.U一4.5..操作温度27一 49}浸洗时问3--4min。电解时问1 --2min。可用于去除 电镀前图形转移后印制电路板表面存在的指印、氧化物和其 他轻微站污。