真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S
名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-8L-S
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,3kw
中频电源功率（MF Power）
C
容量（Volume）
80L（Option）
层数（Electrode of plies）
8（Option）
有效处理面积（Area）
400（L）*300（W）（Option）
气体通道（Gas）
两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2
产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。
保养维修成本低，便于客户成本控制。
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和的技术支持。
应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
等离子体清洗机也有做不到的事情你了解吗
等离子体清洗在应用中也有一定的制约因素存在，主要表现为以下几点：
1.不能用这种方法除去物体表面的切削粉末，这点在清洗金属表面油垢时表现尤为明(显)。
2.实践证明不能用它清楚很厚的油污，虽然用等离子体清洗少量附着在物体表面的油垢有很好的效(果)，但是对厚油垢的清(除)效(果)往往不好，一方面用它清(除)油膜，必须延长处理时间，使清洗的成本大大提高，另一方面有可能是它在与厚油垢相互接触的过程中，引发油垢分子结构中的不饱和键发生了聚合，偶联等复杂反应而形成较坚硬的树脂化立体网状结构有关。一旦形成这类树脂膜他将很难被清(除)。因此通常只用等离子体清洗厚度在几个微米以下的油污。
3.在应用过程中还发现不能用等离子体清洗很好除去表面粘附的指纹，而指纹是玻璃光学元件上常出现的一种污染物。等离子体清洗也不完(全)不能用于出去指纹，但这需要延长处理时间，这时又不得不考虑到这是他会对基材的性能造成不良的影响。所以还需要采用其他清洗措施进行预处理相配合。结果使清洗工艺过程复杂化。
4.由于等离子体清洗过程需要进行真空处理，而且一般为在线或批量生产，因此在把等离子体清洗装置引进生产线时，必须考虑到被清洗工件的贮存和移送的问题，特别是当被处理工件体积较大，数量较多更应考虑到这个问题。
综上所诉可知：等离子体清洗技术适用于对物体表面的油，水及微粒等轻度油污进行清洗，而且利于“速战速决”的在线或批量清洗。
等离子清洗机在运行时应该要注意哪些事项：
1、正确设置等离子设备的运行参数,按时设备使用说明书来执行;
2、保护好等离子体的点火装置,以确保等离子清洗机可以正常的启动;
3、等离子设备在启动前的准备工作,要对相关的人员进行培训,同时确保操作等离子清洗机的人员可以按照要求严格执行各项操作;
4、在一次风管没有通风的时候,等离子体的发生器运行时间不能超过设备说明书上面要求的时间,防止烧坏燃烧器,造成不必要的损失;
5、如果需要对等离子设备进行维护时请将等离子发生器进行断电后再进行相应的操作。
等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有(机)污染物、油污或油脂。